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Reflectividad de la radiografía conocido a veces como Reflectividad Specular de la radiografía, Reflectometry de la radiografía, o XRR para el cortocircuito, está una técnica analítica superficie-sensible usada adentro química, física, y ciencia material para caracterizar superficies, las películas finas y los multilayers.[1] [2] [3] [4] Se relaciona con las técnicas complementarias del reflectometry del neutrón y Ellipsometry.
La idea básica detrás de la técnica es reflejar una viga de radiografías de una superficie plana y después medir la intensidad de las radiografías reflejadas en la dirección specular (ángulo reflejado igual al ángulo del incidente). Si el interfaz no es perfectamente agudo y liso entonces la intensidad reflejada se desviará de ésa predicha por la ley de Reflectividad de Fresnel. Las desviaciones se pueden entonces analizar para obtener el perfil de la densidad del interfance normal a la superficie.
La técnica aparece primero haber sido aplicada a las radiografías por profesor Lyman G. Parratt de la universidad de Cornel en un artículo publicó en la revisión física en 1954 [5]. El trabajo inicial de Parratt exploró la superficie del cristal cubierto cobre, pero ese vez la técnica se ha ampliado desde entonces a una amplia gama de interfaces sólidos y líquidos.
La relación mathamatical básica que describe reflectividad specular es bastante directa. Cuando un interfaz no es perfectamente agudo, sino hace un perfil medio de la densidad del electrón dar cerca ρe(z), entonces la reflectividad de la radiografía se puede aproximar cerca:
Aquí R(Q) es la reflectividad, Q = 4πsin ()/λ del θ, λ es la longitud de onda de la radiografía, está la densidad profundamente dentro del material y θ es el ángulo de la incidencia. Típicamente uno puede entonces utilizar este fórmula para comparar modelos dados parámetros del perfil medio de la densidad en la z-dirección con la reflectividad medida de la radiografía y después para variar los parámetros hasta que el perfil teórico empareja la medida.
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